Stay on top! Get helpful articles and special offers once a month. I accept the Privacy Policy Subscribe
首页 Applications Article Semiconductor基于介电常数的化学机械抛光光诱导力显微镜可视化分析 对经过化学机械抛光(CMP)处理的样品进行光诱导力显微镜(PiFM)成像。虽然金属本身不具有红外活性,但借助其在不同波长下介电常数的差异仍可实现识别。如下列图像所示,PiFM成功区分了金属、阻挡金属及氧化物区域,并呈现出与形貌特征的对应关系。 # PiFM 上一页 Application 厄米-高斯光束焦斑的可视化研究 下一页 Application 埋置于导电层中的银纳米线结构 Interested in a niche application? Ask us, we may have already studied it. Request more info