Molecular Vista公司发布Vista 300系统

纳米化学计量学专业公司Molecular Vista Inc.（MVI）欣然发布Vista 300 ——一款面向先进半导体工艺监控与缺陷分析的纳米红外仪器。

Vista 300 整合原子力显微镜与红外光谱技术，提供光诱导力显微镜（PiFM）功能，该技术以＜5 nm空间分辨率实现化学成像，显著优于飞行时间二次离子质谱（TOF-SIMS）和X射线光电子能谱（XPS）等竞争方法。PiFM提供化合物与分子材料的化学图谱，其原理类似于能谱仪（EDX）在纳米尺度进行元素映射。尽管扫描透射电镜-能谱仪（STEM-EDX）具有与PiFM相近的分辨率，但仅能检测原子种类；而PiFM可对分子进行成像与识别，包括有机/聚合物污染物、无机颗粒/纳米结构、极紫外光刻胶薄膜及残留物等。PiFM属非接触式技术，能保持样品洁净，非常适用于表面功能化分析（甚至单分子层）或纳米级缺陷与颗粒鉴定。

随附图像展示了PiFM的卓越性能——它能在光刻胶显影前，对极紫外光刻胶中16 nm半节距图形的曝光与未曝光区域化学差异进行成像。原子力显微镜形貌图无法显示曝光图案，但PiFM可检测到极紫外曝光引起的化学变化。关于该新兴分析技术的更多信息，请访问molecularvista.com。

Vista 300设计用于处理全尺寸300 mm晶圆，占地面积仅1.1×1.1 m²。该设备已完成开发并可立即订购。通过公司官网联系MVI，可安排客户晶圆或其他样品的Vista 300演示测试。

2015年，MVI成为首家实现纳米红外＜10 nm分辨率的企业（当时领先竞争对手10倍），如今通过推出全新自动化功能持续引领行业，使PiFM操作更简易。新型AutoPiFM功能可在极少用户输入下自动识别材料并生成化学图谱与化学指纹光谱——只需坐等AutoPiFM完成工作！同步推出的AutoAlign系统可自动优化红外光束在原子力显微镜针尖的聚焦，用户无需掌握光学校准细节。这些功能使实验室或生产线技术人员均可轻松使用PiFM技术。

“随着先进半导体工艺日益依赖原子级厚度的有机与介电层及不断缩小的特征尺寸，Vista 300成为表征高数值孔径极紫外光刻（High NA EUV Lithography）、选择性原子层沉积（Selective ALD）、铜-铜混合键合（Cu-Cu Hybrid Bonding）工艺以及亚100纳米缺陷的理想形貌与化学计量学联用工具。”

Molecular Vista公司首席执行官Sung Park博士