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激光实现石墨烯超高掺杂图案化用于可重写光探测器
Rho, Y., Lee, K., Wang, L., Ko, C., Chen, Y., Ci, P., Pei, J., Zettl, A., Wu, J., Grigoropoulos, C.,
Research Square
Abstract
激光辅助氯化技术实现石墨烯单层的高浓度掺杂（> 3×10¹³ cm⁻²）且迁移率衰减极小，同时具备可逆性与空间选择性。该卓越掺杂方案通过两种特定光子能量与几何构型的激光实现，可获得高氯覆盖度（C₂Cl）并在不损伤石墨烯的前提下实现局部氯脱附。基于此方法，我们成功制备出可重写石墨烯光电探测器，展现出高质量的可逆掺杂图案。本研究为二维材料化学掺杂提供了新途径，有望推动新型光电子应用的发展。